संक्षारण प्रतिरोधी हफ़नियम कण

Shanxi Zhonghengeeng Weichuang Metal Materies Co. तार, पाइप, साथ ही साथ गहरे प्रसंस्कृत उत्पाद जैसे कि जहाज, क्रूसिबल, स्पटरिंग लक्ष्य, कोटिंग लक्ष्य, मशीनीकृत भाग, उच्च - तापमान भट्ठी इन्सुलेशन स्क्रीन, हीटिंग तत्व, भट्ठी निकायों (हीटिंग भट्ठी, एनालिंग फर्नेस), संयोग - प्रतिरोधी उपकरण, आदि।

एक निर्माता, आपूर्तिकर्ता, और हफ़नियम सामग्री के निर्यातक के रूप में, Shanxi Zhonghengeeng Weichuang Metal Meters Co., Ltd. उच्च - शुद्धता, उच्च - तापमान प्रतिरोधी, संक्षारण - प्रतिरोधी, एयरोस्पेस, रक्षा, सैन्य इंजीनियरिंग, और मरीन इंजीनियरिंग के साथ ग्राहक सेवा हमेशा ऑनलाइन होती है, इसलिए आपको कोई चिंता नहीं है।

 

संक्षारण प्रतिरोधी हाफनियम कणों को निम्नलिखित मुख्य विशेषताओं को पूरा करना चाहिए, जो सीधे चरम वातावरण में उनकी विश्वसनीयता और अनुप्रयोग मूल्य निर्धारित करते हैं:
1, अंतिम संक्षारण प्रतिरोध

• विशेषता आवश्यकताएं: इसमें नाइट्रिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड, और उच्च - तापमान तरल धातुओं (जैसे सोडियम, लीड बिस्मथ) जैसे मजबूत एसिड के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध होना चाहिए, जो कि 0.01 मिमी से कम की वार्षिक संक्षारण दर के साथ है।
• कारण: रासायनिक और परमाणु उपकरण लंबे समय तक केंद्रित एसिड या संक्षारक मीडिया के संपर्क में हैं। यदि सामग्री बहुत जल्दी से होती है, तो यह उपकरण छिद्र, मध्यम रिसाव और यहां तक ​​कि सुरक्षा दुर्घटनाओं का कारण बन सकता है। हाफनियम (HFO ₂) की घने ऑक्साइड फिल्म में उच्च रासायनिक स्थिरता है और यह संक्षारण प्रतिरोध की मौलिक गारंटी है।

2, उच्च शुद्धता और कम अशुद्धता सामग्री

• विशेषता आवश्यकताएं: 99.9%से अधिक या उसके बराबर हाफनियम सामग्री, और आयरन (FE), निकल (NI), क्लोरीन (CL) (एकल) जैसे अशुद्धियों पर सख्त प्रतिबंध<50 ppm).
• कारण: अशुद्धियां गैल्वेनिक कोशिकाओं का निर्माण कर सकती हैं और स्थानीय संक्षारण में तेजी ला सकती हैं, विशेष रूप से क्लोराइड आयनों से तनाव संक्षारण दरार का कारण हो सकता है। उच्च शुद्धता यह सुनिश्चित करती है कि सामग्री को संक्षारक वातावरण में समान रूप से पारित किया जाता है, पिटिंग या इंटरग्रेनुलर संक्षारण से बचता है।

3, उच्च तापमान स्थिरता

• विशेषता आवश्यकता: एक उच्च - 200-600 डिग्री सी के तापमान अम्लीय वातावरण में संरचनात्मक स्थिरता बनाए रखें, बिना चरण परिवर्तन या अनाज के साथ।
• कारण: रासायनिक रिएक्टर और परमाणु ईंधन पुनर्संरचना उपकरण अक्सर उच्च - तापमान और उच्च - दबाव वातावरण में होते हैं, और सामग्री को थर्मल तनाव और रासायनिक जंग दोनों का सामना करने की आवश्यकता होती है, अन्यथा यह प्रदर्शन गिरावट या विफलता का कारण बन जाएगा।

4, समायोज्य भौतिक रूप

• विशेषता आवश्यकताएं: कण आकार सीमा को 1-150 μ मीटर कवर करना चाहिए और अनियमित आकार (उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र) या गोलाकार आकार (उच्च तरलता) जैसे विभिन्न आकारिकी प्रदान कर सकते हैं।
• कारण: विभिन्न अनुप्रयोग परिदृश्यों को अलग -अलग कण आकृतियों से मेल खाने की आवश्यकता होती है - थर्मल स्प्रे कोटिंग्स को आसंजन को बढ़ाने के लिए अनियमित कणों की आवश्यकता होती है, जबकि भरे हुए समग्र सामग्री को तरलता और घनत्व में सुधार के लिए गोलाकार कणों की आवश्यकता होती है।

5, उत्कृष्ट सिंटरिंग प्रदर्शन और कोटिंग आसंजन

• विशेषता आवश्यकताएं: कणों में अच्छी सिंटरिंग गतिविधि होनी चाहिए और सब्सट्रेट (जैसे स्टील, निकल मिश्र धातु) के साथ एक उच्च संबंध शक्ति कोटिंग बनाने में सक्षम होना चाहिए।

कारण: हाफनियम कणों का उपयोग अक्सर थर्मल स्प्रेइंग के माध्यम से एंटी - संक्षारण कोटिंग्स तैयार करने के लिए किया जाता है। गरीब sintering या अपर्याप्त आसंजन कोटिंग को छीलने और इसके सुरक्षात्मक कार्य को खोने का कारण बन सकता है।

संक्षारण के विनिर्देशों - प्रतिरोधी हफ़नियम कणों को एक विस्तृत श्रृंखला में शामिल किया गया है: कण आकार की सीमा 1 - 150 माइक्रोन से होती है, ठीक पाउडर (1 - 45 μ मीटर) कोटिंग और सिन्टरिंग के लिए उपयुक्त है, और कोर्स पाउडर (45-150 μ) का उपयोग किया जाता है। आकृति विज्ञान अनियमित (उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र) या गोलाकार (उच्च तरलता) हो सकता है; ऑक्सीजन सामग्री को 800ppm (पारंपरिक ग्रेड) से नीचे या 300ppm (उच्च-अंत अनुप्रयोग ग्रेड) से नीचे नियंत्रित किया जा सकता है। सभी उत्पाद संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री के लिए ASTM G48 जैसे अंतर्राष्ट्रीय मानकों की प्रदर्शन आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।
 

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