एसिड प्रतिरोधी हफ़्नियम कण

एसिड प्रतिरोधी हाफनियम कण एक उच्च - प्रदर्शन सामग्री हैं जो विशेष रूप से चरम संक्षारक वातावरण के लिए विकसित की गई है, उच्च - शुद्धता धातु हाफनियम (99.9%से अधिक या बराबर) और उन्नत प्रक्रिया प्रौद्योगिकी के माध्यम से बनाई गई है। मजबूत एसिड मीडिया में इसका उत्कृष्ट प्रदर्शन इसे रासायनिक, परमाणु और अन्य क्षेत्रों में एक मुख्य सुरक्षात्मक सामग्री बनाता है। इस सामग्री की सबसे महत्वपूर्ण विशेषता इसका अंतिम एसिड संक्षारण प्रतिरोध है, जो नाइट्रिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड और यहां तक ​​कि एक्वा रेजिया जैसे मजबूत ऑक्सीकरण एसिड के कटाव का विरोध कर सकता है। 70% उबलते नाइट्रिक एसिड में वार्षिक संक्षारण दर 0.01 मिलीमीटर से कम है, और सेवा जीवन स्टेनलेस स्टील के 10 गुना से अधिक तक पहुंच सकता है। इसी समय, इसमें 2233 डिग्री सेल्सियस तक के पिघलने बिंदु के साथ उत्कृष्ट उच्च - तापमान स्थिरता है, और 200 डिग्री सी के एक केंद्रित एसिड वातावरण में संरचनात्मक अखंडता बनाए रख सकता है, मौलिक रूप से इंटरग्रेन्युलर संक्षारण और स्थानीय छिद्र के जोखिमों से बचता है। इसके अलावा, सख्त रासायनिक संरचना नियंत्रण (अशुद्धियां जैसे कि लोहा, निकल, क्रोमियम, आदि 50ppm से कम हैं) प्रतिक्रिया माध्यम में सामग्री की शुद्धता सुनिश्चित करता है, उत्प्रेरक विषाक्तता या उत्पाद संदूषण से बचता है।

एसिड प्रतिरोधी हफनियम कणों की उत्पादन प्रक्रिया उच्च - शुद्धता हाफनियम कच्चे माल की तैयारी के साथ शुरू होती है। उच्च शुद्धता हाफनियम यौगिकों को निष्कर्षण और पृथक्करण प्रौद्योगिकी के माध्यम से जिरकोनियम हफनियम सीओ से होने वाले अयस्कों से निकाला जाता है, और फिर इलेक्ट्रॉन बीम पिघलने (ईबीएम) प्रक्रिया का उपयोग 99.9%से अधिक या उससे अधिक की शुद्धता के साथ हाफनियम सेलॉट्स को प्राप्त करने के लिए किया जाता है। इसके बाद, हाइड्रोजनीकरण डिहाइड्रोजनेशन (एचडीएच) या प्लाज्मा एटमाइजेशन (पीए) विधियों के माध्यम से पाउडर बनाने की कोशिश की जाती है: एचडीएच विधि हाइड्रोजनीकरण उत्सर्जन, यांत्रिक क्रशिंग और वैक्यूम डिहाइड्रोजनेशन के माध्यम से अनियमित रूप से आकार और उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र कणों को प्राप्त करती है; पीए कानून प्लाज्मा चाप के माध्यम से हाफनियम इलेक्ट्रोड को बूंदों में पिघला देता है और उन्हें गोलाकार कणों में ठंडा करता है, जो कि अधिक महंगा है, बेहतर तरलता और कम ऑक्सीजन सामग्री होती है। गठित कणों ने पोस्ट - उपचार प्रक्रियाओं जैसे कि स्क्रीनिंग और ग्रेडिंग, एसिड धोने और पास होने से गुजरते हैं, और अंततः ऑक्सीकरण प्रदूषण को रोकने के लिए एक अक्रिय माहौल में पैक किए जाते हैं।

उत्पाद में विनिर्देशों और आकारों की एक विस्तृत श्रृंखला होती है, जिसमें 1 - 150 माइक्रोन के कण आकार की सीमा होती है। फाइन पाउडर (1-45 μ मीटर) या मोटे पाउडर (45-150 μ मीटर) को आवेदन की जरूरतों के अनुसार प्रदान किया जा सकता है; आकृति विज्ञान अनियमित हो सकता है (एक बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र के साथ, जो कोटिंग बॉन्डिंग के लिए अनुकूल है) या गोलाकार (अच्छी तरलता के साथ, एडिटिव मैन्युफैक्चरिंग के लिए उपयुक्त); ऑक्सीजन सामग्री को 800ppm (पारंपरिक ग्रेड) से नीचे या 300ppm (उच्च-अंत अनुप्रयोग ग्रेड) से नीचे नियंत्रित किया जा सकता है। सभी उत्पाद ASTM G48 जैसे अंतरराष्ट्रीय मानकों में एसिड प्रतिरोधी सामग्री के लिए प्रदर्शन आवश्यकताओं को पूरा करते हैं।

अनुप्रयोग क्षेत्र में, एसिड प्रतिरोधी हफनियम कणों का उपयोग मुख्य रूप से रासायनिक एंटी - संक्षारण उपकरण में किया जाता है, जैसे कि थर्मल छिड़काव तकनीक के माध्यम से रिएक्टरों और इलेक्ट्रोलाइटिक कोशिकाओं के लिए आंतरिक अस्तर कोटिंग्स का गठन, सीधे नाइट्रिफिकेशन और क्लोरीन जैसे मजबूत एसिड प्रक्रियाओं से उपकरणों की रक्षा करना; परमाणु ईंधन पुनर्संरचना में, खर्च किए गए ईंधन विघटन टैंक के निर्माण के लिए उपयोग किए जाने वाले घटक उच्च तापमान केंद्रित नाइट्रिक एसिड और रेडियोधर्मिता से दोहरे संक्षारण के लिए प्रतिरोधी होते हैं; पर्यावरण संरक्षण और ऊर्जा के क्षेत्रों में, इसका उपयोग परिदृश्यों में किया जा सकता है जैसे कि अम्लीय अपशिष्ट जल उपचार प्रणालियों के लिए निस्पंदन घटकों, एंटी - ईंधन सेल द्विध्रुवी प्लेटों के लिए जंग कोटिंग्स, आदि, कठोर वातावरण में उपकरणों के स्थायित्व को बढ़ाने के लिए। इसके अलावा, धातुकर्म उद्योग में, इसका उपयोग उन भागों के लिए भी किया जा सकता है जिनके लिए लंबे समय तक - को एसिड जंग के लिए प्रतिरोध की आवश्यकता होती है, जैसे कि इलेक्ट्रोप्लेटिंग एनोड बास्केट और दुर्लभ धातु अचार टैंक सामान।
 

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