रासायनिक उपकरणों के लिए हफ़नियम कण
रासायनिक उपकरणों में उपयोग किए जाने वाले हाफनियम कण उच्च - से बने दानेदार सामग्री होती हैं, जो हाइड्रोजनीकरण निर्जलीकरण (एचडीएच) या प्लाज्मा एटमाइजेशन (पीए) जैसी प्रक्रियाओं के माध्यम से शुद्धता धातु हफनियम (आमतौर पर 99.9%से अधिक या बराबर) होती हैं। इसका मुख्य मूल्य उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध, उच्च शुद्धता विशेषताओं, और उच्च - तापमान स्थिरता में निहित है, जिससे यह चरम रासायनिक वातावरण जैसे कि मजबूत एसिड और उच्च तापमान से निपटने के लिए एक महत्वपूर्ण सामग्री है।
विवरण
रासायनिक उपकरणों में उपयोग किए जाने वाले हाफनियम कणों को उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और अत्यधिक उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती है। इसमें नाइट्रिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड, और उच्च - तापमान भाप जैसे मजबूत एसिड के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध होना चाहिए, जिसमें वार्षिक संक्षारण दर 0.01 मिलीमीटर से कम है। इसी समय, आयरन, निकेल और क्लोराइड आयन जैसे अशुद्धियों की सामग्री (एकल)<50ppm) must be strictly controlled to avoid catalytic poisoning or reaction medium pollution, ensuring the purity and continuity of the chemical process.
दूसरे, कणों को स्थिर उच्च - तापमान प्रदर्शन और अनुकूलन योग्य भौतिक आकारिकी की आवश्यकता होती है। यह 300-600 डिग्री C के अम्लीय वातावरण में संरचनात्मक स्थिरता को बनाए रख सकता है, बिना इंटरग्रेन्युलर संक्षारण प्रवृत्ति के, और विभिन्न प्रक्रियाओं जैसे कि थर्मल स्प्रेइंग और सिन्टरिंग जैसे कि नियंत्रणीय कण आकार (1-150 μ मीटर), आकृति विज्ञान (अनियमित या गोलाकार), और कण आकार के प्रसंस्करण और कार्यात्मक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलन करता है, जो कि वैराग्य अनुप्रयोग, और कार्यात्मक आवश्यकताओं को पूरा करता है।
कोर प्रक्रिया
उत्पादन प्रक्रिया एक सटीक प्रक्रिया है जो उच्च - शुद्धता धातुकर्म, पाउडर की तैयारी, और पोस्ट - उपचार को एकीकृत करती है, जिसका उद्देश्य उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और नियंत्रणीय संरचना और आकारिकी के साथ हाफनियम कण उत्पादों को प्राप्त करना है।
1, उच्च - की तैयारी है
हफ़नियम जिरकोनियम का पृथक्करण और शुद्धिकरण:
निष्कर्षण पृथक्करण तकनीकों (जैसे कि Mibk thiocyanate प्रणाली) का उपयोग करते हुए, उच्च - शुद्धता हफनियम यौगिक (जैसे कि HFCl ₄) को ज़िरकोनियम हफनियम सह होने वाले अयस्कों से अलग किया जाता है।
पिघलने में कमी:
क्रोल प्रक्रिया या इलेक्ट्रॉन बीम पिघलने (ईबीएम) का उपयोग करके, हफनियम यौगिकों को कम कर दिया जाता है और इनकोट्स में पिघलाया जाता है, जैसे कि ऑक्सीजन (ओ (ओ)<600 ppm) and nitrogen (N<100 ppm) to ensure substrate purity of ≥ 99.9%.
2, पाउडर बनाने की प्रक्रिया
हाइड्रोजनीकरण डिहाइड्रोजनेशन (एचडीएच) विधि (मुख्यधारा की प्रक्रिया):
हाइड्रोजनीकरण: हाइड्रोजन वातावरण में हाइड्रोजन वातावरण में हाइड्रोजन वातावरण में नियोडिमियम इनगोट का इलाज करें।
कुचल और पीस: एक सुरक्षात्मक वातावरण के तहत लक्ष्य कण आकार की सीमा तक यांत्रिक क्रशिंग।
डिहाइड्रोजनेशन: उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र के साथ अनियमित रूप से आकार के हफनियम कणों को प्राप्त करने के लिए 800-1000 डिग्री C पर उच्च वैक्यूम में डिहाइड्रोजनेशन किया जाता है।
प्लाज्मा एटमाइजेशन (पीए) विधि (उच्च - प्रदर्शन की आवश्यकता):
एक अक्रिय वातावरण में प्लाज्मा चाप के माध्यम से तरल बूंदों में उच्च - शुद्धता हाफ़नियम इलेक्ट्रोड छड़ें।
अच्छी तरलता और कम ऑक्सीजन सामग्री के साथ, लेकिन उच्च लागत पर, उड़ान के दौरान अत्यधिक गोलाकार कणों में बूंदें ठंडी होती हैं।
3, पोस्ट प्रोसेसिंग और ग्रेडिंग
स्क्रीनिंग और ग्रेडिंग:
कंपन स्क्रीनिंग और एयरफ्लो वर्गीकरण तकनीक का उपयोग करके, पाउडर को सटीक रूप से आवश्यक कण आकार सीमा (जैसे 1-45 μ मीटर, 45-150 μ मीटर) में वर्गीकृत किया जाता है।
सतह का उपचार
एसिड वाशिंग: एक मिश्रित एसिड (जैसे कि HF - hno ∝) का उपयोग करें, जो सतह ऑक्साइड और दूषित पदार्थों को साफ करने के लिए है।
पासेशन ट्रीटमेंट: जंग प्रतिरोध को और बढ़ाने के लिए एक घने ऑक्साइड फिल्म बनाएं।
प्रदर्शन परीक्षण:
रचना विश्लेषण: जीडीएम शुद्धता और अशुद्धता सामग्री का पता लगाता है।
प्रदर्शन परीक्षण: संक्षारण परीक्षण का संचालन करें (जैसे कि 70% नाइट्रिक एसिड में भिगोना), कण आकार वितरण और फ्लोबिलिटी परीक्षण।
4, पैकेजिंग और भंडारण
परिवहन और भंडारण के दौरान ऑक्सीकरण और नमी के अवशोषण को रोकने के लिए पैकेजिंग एक अक्रिय वातावरण (जैसे आर्गन) या वैक्यूम वातावरण में किया जाना चाहिए।
कण आकार, शुद्धता, बैच संख्या आदि जैसी जानकारी के साथ लेबल करें ताकि ट्रेसबिलिटी और सुरक्षित उपयोग सुनिश्चित किया जा सके।
रासायनिक उपकरणों में उपयोग किए जाने वाले हाफनियम कणों ने मजबूत एसिड, उच्च तापमान, और उच्च - शुद्धता वातावरण में उच्च - शुद्धता नियंत्रण, आकृति विज्ञान डिजाइन और सतह अनुकूलन के माध्यम से सामग्री संक्षारण और प्रदूषण की समस्याओं को हल किया है। इसका अनुप्रयोग रासायनिक उपकरणों के सेवा जीवन का विस्तार करता है, प्रक्रिया स्थिरता और उत्पाद शुद्धता में सुधार करता है, और उच्च - अंतिम रासायनिक उपकरणों के लिए एक अपरिहार्य रणनीतिक सामग्री है।
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