टैंटलम कण 10x10

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उद्योगों की एक विस्तृत श्रृंखला में उपयोग किया जाए।

 

 

 

 

 

 

 

टैंटलम कणों का घनत्व 16.6 ग्राम/सेमी and है, और पिघलने बिंदु 3017 डिग्री है। इसके रासायनिक गुण बहुत स्थिर हैं, अत्यधिक उच्च संक्षारण प्रतिरोध के साथ, और यह हाइड्रोक्लोरिक एसिड, केंद्रित नाइट्रिक एसिड, और गर्म और ठंड की स्थिति के तहत एक्वा रेजिया जैसे मजबूत एसिड के साथ प्रतिक्रिया कर सकता है। इसके अलावा, टैंटलम कणों में अच्छी लचीलापन और प्लास्टिसिटी होती है, और इसे ठीक तारों में खींचा जा सकता है या पतले पन्नी में बनाया जा सकता है।

टैंटलम कणों में कई क्षेत्रों में अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला होती है:
1। इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग: टैंटलम कणों का उपयोग उच्च-आवृत्ति सर्किट और एंटेना बनाने के लिए किया जाता है, विशेष रूप से उपग्रह संचार उपकरणों में।
2। एयरोस्पेस और रक्षा: विमानन इंजन घटकों, रॉकेट और मिसाइल मार्गदर्शन प्रणालियों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है, क्योंकि वे चरम परिस्थितियों में स्थिरता बनाए रख सकते हैं।
3। चिकित्सा क्षेत्र: उनकी जैव -रासायनिकता और संक्षारण प्रतिरोध के कारण कृत्रिम जोड़ों, दंत प्रत्यारोपण और पेसमेकर जैसे चिकित्सा प्रत्यारोपण के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है।
4। रासायनिक उद्योग: रासायनिक प्रतिक्रिया जहाजों और पाइपलाइनों के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है, क्योंकि वे मजबूत एसिड, मजबूत क्षार और उच्च तापमान वातावरण में उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध का प्रदर्शन करते हैं।
5। ऊर्जा उद्योग: बैटरी प्रदर्शन में सुधार के लिए लिथियम-आयन बैटरी के लिए उपयोग किए जाने वाले एनोड सामग्री।

टैंटलम कणों की तैयारी के तरीकों में पिघलने और कोटिंग प्रक्रियाएं शामिल हैं। टैंटलम पाउडर का उपयोग आमतौर पर उच्च-प्रदर्शन चिप या संसेचन टैंटलम इलेक्ट्रोलाइटिक कैपेसिटर का उत्पादन करने के लिए किया जाता है, जिसमें उच्च विशिष्ट कैपेसिटेंस और कम रिसाव वर्तमान की विशेषताएं होती हैं। इसके अलावा, टैंटलम कणों का उपयोग हीटिंग घटकों, इन्सुलेशन घटकों और वैक्यूम ब्लास्ट फर्नेस के लिए लोडिंग जहाजों के उत्पादन में एडिटिव्स के रूप में भी किया जा सकता है।

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